天河區(qū)公司如何辦理專利？申請(qǐng)專利的條件比較多，正穗帶你來看看！
中國(guó)專利共有三種類型：發(fā)明、實(shí)用新型、外觀設(shè)計(jì)。
申請(qǐng)專利的發(fā)明創(chuàng)造應(yīng)當(dāng)具備新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性。
對(duì)違反國(guó)家法律、社會(huì)公德或者妨害公共利益的發(fā)明創(chuàng)造，以及下列各項(xiàng)，不授予專利權(quán)：
.科學(xué)發(fā)現(xiàn)；
.智力活動(dòng)的規(guī)則和方法；
.疾病的診斷和治療方法；
.動(dòng)植物品種；
.用原子核變換方法獲得的物質(zhì)。
對(duì)以上第4項(xiàng)所列產(chǎn)品的生產(chǎn)方法、可以依照專利法規(guī)定授予專利權(quán)。
委托代理申請(qǐng)專利的程序
.咨詢；
.檢索；
可以在網(wǎng)上自行檢索
申請(qǐng)發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛯＠毺峤患夹g(shù)交底書
.技術(shù)交底書的要求：
□應(yīng)清楚、完整地寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷膬?nèi)容；
□使所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能夠根據(jù)此內(nèi)容實(shí)施發(fā)明創(chuàng)造；
□使上述人員相信本發(fā)明確實(shí)可以解決現(xiàn)有技術(shù)不能解決的問題。
.技術(shù)交底書的內(nèi)容
)發(fā)明創(chuàng)造的名稱；
)所屬技術(shù)領(lǐng)域；
)背景技術(shù)：描述申請(qǐng)人所知的與發(fā)明方案最接近的已有技術(shù)，對(duì)其存在的問題或不足進(jìn)行客觀的評(píng)述；
)發(fā)明創(chuàng)造所要解決的技術(shù)問題；
)清楚、完整地?cái)⑹霭l(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)方案；
對(duì)于機(jī)械產(chǎn)品的發(fā)明創(chuàng)造應(yīng)詳細(xì)說明每一個(gè)結(jié)構(gòu)零部件的形狀、構(gòu)造、部件之間的連接關(guān)系、空間位置關(guān)系、工作原理等；
對(duì)于電器產(chǎn)品應(yīng)描述電器元件的組成、連接關(guān)系；
對(duì)于無固定形狀和結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品，如粉狀或流體產(chǎn)品、化學(xué)品、藥品，應(yīng)描述其組分及其含量、制造工藝條件和工藝流程等；
對(duì)于方法發(fā)明，應(yīng)描述操作步驟、工藝參數(shù)等；
)與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明所具有的優(yōu)點(diǎn)和有益效果，例如性能的提高、成本的降低等。
)附圖：
實(shí)用新型必須提供附圖，附圖中構(gòu)成件可以有標(biāo)記，尺寸和參數(shù)不必標(biāo)注。
)優(yōu)選具體實(shí)施方式（可與第5部分合寫）：
對(duì)于產(chǎn)品發(fā)明應(yīng)描述產(chǎn)品構(gòu)成、電路構(gòu)成或者化學(xué)成分、各部分之間的相互關(guān)系、工作過程或操作步驟；對(duì)于方法發(fā)明應(yīng)寫明步驟、參數(shù)、工藝條件等，可提供多個(gè)具體實(shí)施方式。
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